其中光刻设备是公司的主营业务-cg资源网官网据中邦政府采购网12月25日披露的布告显示,邦产光刻机厂商上海微电子配备(集团)股份有限公司(以下简称“上海微电子”)中标了一台步进式扫描光刻机,成交金额约为1.1亿元。
正在目前的光刻机墟市,ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商,占领了环球99%的墟市。此中ASML 正在中高端光刻机墟市更是一家独大,独有抢先90%墟市,且是环球独一家具有可能被用于7nm以下工艺制程的EUV光刻机的供应商。近几年来,跟着优秀制程的继续饱动,ASML依赖其独家具有的售价超1.5亿美元的EUV光刻机,使得其正在光刻机墟市贩卖份额继续提拔。
比拟之下,上海微电子因为起步晚,再加上外洋的本事封闭,使得其正在本事上与外洋存正在着较大差异。
早正在2002年,光刻机就被列入邦度863巨大科技攻合策画,上海微电子配备有限公司也由此创造。要紧从事半导体配备、泛半导体配备以及高端智能配备的打算修筑贩卖。此中光刻设置是公司的主买卖务,平凡利用于集成电道财富链中晶圆修筑、封装测试,以及平板显示、高亮度 LED 等规模。
截至2020年3月,上海微电子直接持有各种专利及专利申请抢先3200项,同时通过修树并列入财富常识产权同盟,进一步整合共享了巨额同盟成员常识产权资源,涉及光刻机、激光与检测、额外利用类等各大产物本事规模,周至笼罩了上海微电子产物的要紧贩卖地区。
官网产物材料显示,上海微电子的光刻设置要紧征求SSX600系列步进光刻机、SSB500系列步进光刻机、SSB300系列步进光刻机、SSB200小Mask系列曝光机、SSB200大Mask系列曝光机。
此中,SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自合适调焦调平本事,以及高速高精的自减振六自正在度工件台掩模台本事,可知足IC前道修筑90nm、110nm、280nm枢纽层和非枢纽层的光刻工艺需求,可用于8寸产线寸产线系列步进投影光刻机要紧利用于集成电道优秀封装规模,征求Flip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP和2.5D/3D等优秀封装式子,可知足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级/方板级光刻工艺需求。
SSB300系列步进投影光刻机要紧利用于2~6英寸基底优秀光刻规模,可知足Micro/Mini LED、新型化合物半导体器件和MEMS等芯片制程的光刻工艺需求。
此次中标布告揭橥中标的上海微电子的产物型号SSC800/10,固然官网上未揭橥这款产物的材料,但经芯智讯核实后觉察,这只是一台248nm光源的KrF光刻机,区别率为110nm。
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